選金設(shè)備工藝流程之礦漿濃度控制

在實(shí)際的選礦作業(yè)中，限于經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)水平等原因，人工作業(yè)很難準(zhǔn)確控制濃密機(jī)底流礦漿濃度，往往會(huì)過(guò)低或高度，不是使精礦水分含量過(guò)高，就是造成濃密機(jī)壓耙故障，不得不停機(jī)維修。以選金設(shè)備工藝流程為例，其濃密機(jī)底流礦漿濃度要求控制在50%-60%之間，而且一般還需往下一級(jí)濃密機(jī)輸送，礦漿濃度更難控制。

要控制礦漿濃度，就要能夠檢測(cè)其瞬時(shí)濃度，確保某一時(shí)段的礦漿濃度在預(yù)定范圍內(nèi)變化。并且在這段時(shí)間內(nèi)，濃密機(jī)能夠平穩(wěn)進(jìn)行選礦作業(yè)，不會(huì)壓壓耙。由于在浮選過(guò)程中，礦漿顆粒較細(xì)，表面往往帶有電荷，相互之間有排斥力，加大了礦漿濃度控制的難度，可以考慮添加處理劑中和的措施。

為了解決控制礦漿濃度這一難題，人們研制了濃密機(jī)底流濃度自動(dòng)控制系統(tǒng)。它可以可準(zhǔn)確方便的檢查任何時(shí)候的礦漿濃度，確保選礦工藝產(chǎn)品質(zhì)量達(dá)標(biāo)，并能夠調(diào)節(jié)礦漿濃度，中和負(fù)電極，確保其在比較適宜范圍內(nèi)，不會(huì)造成壓耙及精礦水分過(guò)高等問(wèn)題。